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Si2O焼結炉

Suitable for mass production of vapor deposition materials such as silicon oxide; High precision temperature difference control, high temperature and high vacuum; With high vacuum sublimation, reaction, degreasing, dehydration, vapor deposition material automatic grinding scraping, furnace collection and other special process capabilities.
可用性ステータス:
数量:

氧化亚硅烧结炉+水印


設備の特徴:

材料量が多く、生産効率が高い。

l プロセス全体は完全に閉鎖されており、自動操作であり、粉塵の飛散を避け、生産現場の環境は清潔でクリーンです。

l 1500度以内の温度制御、速い加熱速度。

真空下でも安定した動作を維持できます。

機器パラメータ:

l 炉形式は横型構造です。

l 装置は昇華系、回収系、加熱系、温度制御系、真空系、機械系、冷却系から構成されます。

昇華システムは加熱ゾーンと回収ゾーンで構成されます。加熱ゾーンは、誘導コイル、ヘビーコランダム、グラファイトハードフェルト、等方性グラファイトで構成されています。収集エリアは 310S ステンレス鋼と断熱層で構成されています。

l 温度制御システムは、PLCタッチスクリーン集中制御モードを採用し、自動制御、ネットワークポートを使用して、リモート制御を実現できます。

l 加熱システムは誘導加熱を採用し、電源は低ノイズで従来のサイリスタ電源と比較して約15%省エネのIGBT省エネ電力を採用しています。

真空システムは多段真空ポンプ、真空バルブ、圧力コントローラー、パイプラインで構成されています。

l 炉本体は内外二層水冷構造で、冷却水と接触する部分は304ステンレス鋼を使用しており、炉本体からのガス漏れを長期間効果的に防止します。

l 冷却システムには密閉冷却システムが装備されています。内部循環には脱イオン水を使用しているため、装置のパイプラインにスケールが付着することはありません。内部循環水の損失が少ない。優れた放熱効果、統合された環境保護、小さな設置面積など。

l恒温ゾーンのサイズ:Φ500mm * 600mm、Φ600mm * 800mm、Φ700mm * 1000mm、Φ800mm * 1600mmなど。(顧客のニーズに応じてカスタマイズ可能)


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