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真空熱圧焼結炉

The equipment is mainly used for colleges and universities, scientific ...
可用性ステータス:
数量:

真空热压烧结炉+水印


真空高圧焼結炉  


[使用]:この機器は、主に大学、大学、金属化合物、セラミック、無機化合物、ナノ材料などの科学研究ユニットに使用されます。高精度の窒化シリコンセラミックベアリングや窒化シリコンセラミック基板の生産などの一貫した製品



特徴:  

(1)二重SUS304炉構造、中央を冷却する水を冷却し、炉の表面温度を効果的に低下させて高温の損傷を減らし、環境への影響を減らします。  

(2)機器の信頼性を確保するために、プロファイル溶接、全体的な処理を使用したフレームタイプのダブルカラムサポート構造。  

(3)熱絶縁材料と熱断熱構造の使用、低熱伝導率、良好な熱断熱効果、高温であっても、熱を効果的に分離し、エネルギー消費を節約することができます。  

(4)広い温度範囲、グラファイト、モリブデン、タングステン、タンタルなどのさまざまなオプションの加熱要素、適切な保護雰囲気で、温度は2800℃に達する可能性があり、異なる材料の熱いプレス焼結に適応できます。  

(5)多様な真空システム構成、プロセスに応じてさまざまなレベルの真空を選択します。  

(6)充電およびリリースシステムなしで、真空環境で熱い圧迫焼結を選択できます。また、不活性雰囲気の熱いプレス焼結または雰囲気を減らすこともできます。  

(7)両方の手動操作である人間化された構成も、1ボタンのインテリジェント操作を実現できます。  

(8)この炉は  マルチプルーズを満たすことができ、単純な真空または雰囲気の焼結炉として使用できます。  

(9)多様な種類、垂直上部放電、垂直方向の側型ドア放電、一方向圧力、双方向の圧力など、任意の選択。  

(10)この製品は、非標準のカスタマイズを受け入れます。  

製品仕様

モデル

作業領域の寸法D*H MM

最高温度℃

コールドリミット真空pa

圧力比pa/h

定格電力KW

圧力t

変位mm

電荷圧力MPa

JT-Ryl-50

ut150*200

2400

5*10-3

3

50

20-200

0-100

0.05

JT-Ryl-75

出される*300

2400

5*10-3

5

75

20-200

0-150

0.05

JT-Ryl-100

out300*400

2400

5*10-3

6

100

20-200

0-250

0.05

JT-RYL-200

wt400*500

2400

5*10-3

6

200

20-300

0-300

0.05

JT-Ryl-300

見つけた*600

2400

5*10-3

6.5

300

20-400

0-350

0.05

JT-Ryl-400

wt600*700

2400

5*10-3

6.5

400

20-400

0-450

0.05


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