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真空炉

真空炉は、真空焼結に使用できます。つまり、真空状態で金属粉末製品を加熱し、隣接する金属粉末粒子が付着と拡散によって部品に焼結します。
可用性ステータス:
数量:


真空炉  

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真空炉は真空焼結炉であり、区別するための機器の用途に応じて、おそらく次のタイプが含まれます:真空ホットプレス炉、真空焼結炉、炭化ケイ素真空炉、炭化チタン真空炉、炭化クロム真空炉、真空脱脂焼結炉など。

真空炉は加熱方法により真空抵抗炉、真空誘導炉、真空アーク炉、プラズマ炉に分けられます。

真空炉の構造は一般に、メインエンジン、炉室、電気加熱装置、密閉炉シェル、真空システム(真空ポンプ、真空測定装置、真空バルブなどのコンポーネントによって慎重に組み立てられています)、電源システム、温度制御システム、炉外搬送車両で構成されています。


応用:

セラミック焼結、真空溶解、電気真空部品の脱ガス、アニーリング、金属部品のろう付け、セラミック金属シールおよびその他の合金材料の真空焼結に使用されます。




特徴:


炉内の加熱システムは、電気抵抗線(タングステン線など)または電磁誘導加熱により直接加熱できます。


温度は約2600℃に達し、さまざまな材料の焼結に十分に対応できます。


デジタルディスプレイインテリジェント温度制御システムを使用し、自動かつ高精度で温度測定と温度制御プロセスを完了します。システムは、指定された温度曲線に従って加熱でき、400の異なるプロセス加熱曲線を合計20個保存できます。


内部循環純水冷却システム、デジタルフローモニタリングシステム。


炉体の自動変換には高性能中間周波接触器を使用しています。


包括的なPLC水、電気、ガス自動制御および保護システム。


主な技術パラメータ


最高使用温度

2600℃

高温ゾーン容積

12L、45L、128L、192L、250L、375L、540L、648L

980L、1600L、2430L、3500L、10000L

炉内の作業雰囲気

真空

温度均一性

≤±10℃

±20℃以下

温度測定

赤外線光学式温度測定

温度測定範囲

800~2600℃または0~2600℃

温度測定制御

プログラム制御と手動制御

温度測定精度

0.2~0.75%

温度制御精度

±1℃

±3℃

加熱速度を制限する

30℃/分

20℃/分

圧力上昇率

0.6Pa/h

到達真空度

4X10Pa-3

チャージバッチ

60~1200KG

火力

30~200KW


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