蒸気堆積炉は、一般的に使用されるフィルム堆積装置であり、蒸気堆積技術によって基質の表面に薄膜材料を栽培します。ガスまたはガス混合物を加熱基質の表面に移し、サーファで化学反応を起こすことで機能します

真空炉の分類真空炉は、主に以下の側面を含むさまざまな用途を備えた真空条件下で材料を加熱および処理するためのデバイスです。他の熱

炉生産技術の製造構造のグラファイジングは、連続生産のための高温グラフィット化炉はじめに：この技術は、継続的に生成できる高温グラフィット化炉を提供します。高温グラフィティザット

浮選法は、グラファイトを精製するための浮選方法の最大の利点である、従来の鉱物精製方法の中で最も低いエネルギー消費と試薬の消費と最低コストを持つ方法です。ただし、グラファイトCを精製するための浮選方法の使用

高効率、精度、柔軟性、幅広い適用性のため、蒸気堆積炉は現代の工業生産において重要な地位を占めています。特別な産業装置として、蒸気堆積炉の特性は主にどのような側面に現れますか？

vapor蒸気堆積炉の機能には、主に材料の成長と堆積、熱処理、フィルムの準備、ナノマテリアルの準備、半導体産業用途、粉末冶金、光学材料の準備などが含まれます。

シリコン化焼結炉の主な機能は、シリコンをカーボンセラミックマトリックスに浸透させて、セラミック材料の硬度、耐摩耗性、耐食性を高めることです。具体的には、シリコン化焼結炉は、の浸透と固化を達成します

焼結炉は重要な産業用具であり、その主な用途は、高温の作用により特定の強度と形状を伴う粉末または細かい粒状材料を固体材料に加工することです。以下は、焼結炉のいくつかの具体的な用途です。1。金属産業：センターリ

1.高温処理を行うときに真空環境で高効率と省エネの熱処理炉は、ガス接着、酸化などの影響を受けることはないため、非常に高い結果を得ることができます。同時に、この機器で使用されるエネルギー

高温炭化炉は、高温グラファイトを加熱することにより有機物を炭素に変換するデバイスです。その作業原則には、主に予熱、加熱、炭化、冷却の4つのプロセスが含まれます。1つ目はウォームアップ段階です。高温カーボニの前

真空焼結炉の役割‌真空焼結炉の主な機能は、さまざまな材料の工業生産に適した真空環境で焼結材料です。 hackuum真空焼結炉は真空または保護雰囲気の下で動作し、原則を使用します

真空炉の主な機能には次のものがあります。・‌真空環境‌：真空室で真空システムを使用して材料を排出するため、炉室の圧力は標準的な大気圧よりも小さいため、真空を実現するために状態。・‌‌保護焼結‌：

1。ボックス真空炉箱真炉は、最も広く使用されている真空炉の1つであり、主に高温、低圧または高温および高圧下での熱処理とアニーリングに使用されます。通常、ボックス、加熱要素、加熱スクリーン、真空システム、および

真空高押し焼furlは、使用されるさまざまな温度に応じて、次のカテゴリに分けることができます。温度の使用の違いにより、加熱チャンバーで使用される加熱および断熱方法は非常に異なります。炉の温度8未満

真空炉とは何ですか？真空炉の原理と構造は、特定の環境向けに設計されたデバイスである真空炉を導入します。原則は、真空システムを通じて、炉チャンバー内の材料が除去され、標準的なATMOSの下に真空環境を作成することです。

真空炉は、真空消光と温度、真空アニーリング、真空溶液と老化、老化、真空焼結、真空化学熱処理と真空コーティングおよびその他のプロセスを実現することができます。

真空焼結炉は、真空環境で加熱されたアイテムを保護するための炉です。その作業原理には主に次の手順が含まれています。‌真空環境‌：まず、焼結する材料が炉に入れられ、炉の真空度が縮小されます。

高温グラフィット化炉は、通常、特別な材料を加熱するために使用される高温加熱装置の一種です。このデバイスは高温環境を提供できるため、これらの特別な材料が化学的または物理的な変化を受けるように、特定の加熱処理を実現するために

高温グラフィット化炉は、高温容量を使用して有機廃棄物を貴重な炭素燃料に変換するデバイスです。そのコアテクノロジーには、次の側面が含まれます。1つ目は、高温グラフィット化反応技術です。高温グラフィット化毛皮

真空焼結炉は、粉末冶金、セラミック材料、金属材料、その他の畑で広く使用されている一般的に使用される熱処理装置です。真空焼結炉の正しい選択は、製品の品質と生産効率を改善するために非常に重要です。ここにいくつかあります