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蒸着炉

Vapor deposition furnace can be used to heat and vaporize metal halides, metallic...
可用性ステータス:
数量:

蒸着炉

1+水印


蒸着炉は、金属ハロゲン化物、金属有機化合物、炭化水素およびその他の反応源を特定の圧力下で加熱および蒸発させ、ターゲット材料の表面に固体の堆積物を生成するために使用できます。C/C複合材料、SiC複合材料、CVD、CVI処理など、炭化水素ガス(C3H8など)を炭素源とする複合材料の化学気相成長にも使用されます。

特徴:

1) 中温または高温では、気相中の初期化合物間の気相化学反応によって固体材料が形成され、マトリックス上に堆積します。

2)大気圧または真空条件下で蒸着できます(負圧蒸着、通常は真空蒸着膜の品質が優れています)。

3)プラズマおよびレーザー支援技術を使用すると、化学反応を大幅に促進できるため、より低い温度で堆積を実行できます。

4)コーティングの化学組成は、勾配沈殿物または混合コーティングを得るために、気相組成の変化とともに変化する可能性がある。

5) コーティング密度とコーティング純度を制御できます。

6) メッキパーツ周り。複雑な形状のマトリックスや粒状材料にもコーティングできます。あらゆる種類の複雑な形状のワークのコーティングに適しています。塗装性能が良いため、ワークの溝、溝、穴、止り穴などにも塗装可能です。

7) 堆積層は通常柱状結晶構造を持ち、曲げに弱いですが、さまざまな手法による化学反応の気相摂動によってその構造を改善することができます。

8) さまざまな反応を通じて、さまざまな金属、合金、セラミック、化合物のコーティングを形成できます。


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