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真空蒸着炉

The Vacuum deposition furnace is used for the preparation of carbon-carbon composite...
可用性ステータス:
数量:

真空蒸着炉

4

真空蒸着炉は炭素-炭素複合材料の製造に使用され、主に黒鉛、半導体デバイス、耐熱研磨材の表面に熱分解炭素コーティングを製造するために使用されます。

適用範囲:

グラファイト、半導体デバイス、耐熱研磨材。

1. 基本パラメータ:

1) 設計温度: 1250℃/1650℃/1800℃/2200℃

2) 共通温度: 900~1200℃

3) 真空度: < 50Pa

4) 圧力上昇率: 空の炉の冷間状態で 6.67pA /h (または 150Pa/24h)

5) 加熱モード: 黒鉛抵抗加熱または誘導加熱、独立した温度制御、良好な温度均一性

6) 雰囲気媒体: 真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar

7) ガス制御モード: 質量流量計制御、マルチチャネルガス経路、均一な流れ場、蒸着デッドアングルなし、良好な蒸着効果。

多段階かつ効率的な排気処理システム、環境に優しく、掃除が簡単。

8) 炉の種類: 正方形、円形、垂直または水平構造 (非標準設計)、完全に密閉された堆積チャンバー、良好なシール効果、強力な汚染防止能力。

9) 炉冷却モード: 炉殻水冷、外部循環急速冷却システムを選択でき、冷却時間が短く、生産効率が高い。

2.真空蒸着炉の構造:

構造形式:横型 - 横排出、縦型 - 上下排出

炉ドアロックモード:手動/自動

炉殻材質:内側ステンレス鋼/オールステンレス鋼

断熱材:カーボンフェルト/グラファイトフェルト/カーボンファイバー硬化フェルト

ヒーター、マッフル材質:グラファイト/CFC

赤外線機器: シングル比色分析/ダブル比色分析

電源:KGPS/IGBT(中周波加熱のみに適しています)


3、製品  仕様

パラメータ/型番

GJC-0305-C

GJC-0505-C

GJC-0608-C

GJC-0612-C

GJC-0812-C

GJC-1120-C

GJC-1218-C

GJC-1520-C

作業ゾーンのサイズ

φ×H(mm)

300×500

500×500

600×800

600×1200

800×1200

1100×2000

1200×1800

1500×2000

最高温度

(℃)

2300

2300

2300

2300

2300

2300

2300

2300

温度均一性(℃)

±5

±5

±5/±7.5

±7.5/±10

±7.5/±10

±10/±15

±10/±15

±15/±20

限界真空度

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

圧力上昇率

(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

加熱方法

·

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導

抵抗・誘導


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