真空高押し焼furlは、使用されるさまざまな温度に応じて、次のカテゴリに分けることができます。温度の使用の違いにより、加熱チャンバーで使用される加熱および断熱方法は非常に異なります。炉の温度8未満

真空炉とは何ですか？真空炉の原理と構造は、特定の環境向けに設計されたデバイスである真空炉を導入します。原則は、真空システムを通じて、炉チャンバー内の材料が除去され、標準的なATMOSの下に真空環境を作成することです。

類似点: 1. 真空環境: どちらの炉も真空環境を提供でき、焼結プロセス中に酸素やその他の不純物を排除して材料の純度を確保できます。2. 高温焼結: どちらの炉も組み合わせで高温条件を提供できます。

真空ホットプレス焼結炉は、焼結炉と真空ポンプ部分、炉本体を含む焼結炉、炉加熱室に設置された焼結炉を含む一種の生産設備です。焼結炉には6つの電極が設置されており、その特徴は次のとおりです。