真空炉とは何ですか？真空炉の原理と構造は、特定の環境向けに設計されたデバイスである真空炉を導入します。原則は、真空システムを通じて、炉チャンバー内の材料が除去され、標準的なATMOSの下に真空環境を作成することです。

真空炉は、真空消光と温度、真空アニーリング、真空溶液と老化、老化、真空焼結、真空化学熱処理と真空コーティングおよびその他のプロセスを実現することができます。

真空焼結炉は、真空環境で加熱されたアイテムを保護するための炉です。その作業原理には主に次の手順が含まれています。‌真空環境‌：まず、焼結する材料が炉に入れられ、炉の真空度が縮小されます。

高温グラフィット化炉は、通常、特別な材料を加熱するために使用される高温加熱装置の一種です。このデバイスは高温環境を提供できるため、これらの特別な材料が化学的または物理的な変化を受けるように、特定の加熱処理を実現するために

高温グラフィット化炉は、高温容量を使用して有機廃棄物を貴重な炭素燃料に変換するデバイスです。そのコアテクノロジーには、次の側面が含まれます。1つ目は、高温グラフィット化反応技術です。高温グラフィット化毛皮