真空誘導溶解炉は、溶解に誘導加熱と真空環境を使用する一種の装置であり、幅広い用途と良好な市場見通しを持っています。適用範囲: 1. 金属材料の溶解: 真空誘導溶解炉は、金属材料の溶解に広く使用されています。

真空ホットプレス焼結炉は、高温と高圧を組み合わせた一種の焼結装置であり、独特の適用範囲と市場展望を持っています。適用範囲: 1. 金属材料: 真空ホットプレス焼結炉は金属材料の焼結に使用できます。

真空焼結炉と雰囲気焼結炉は2つの一般的な焼結装置であり、焼結プロセスにおける作業環境と特性にはいくつかの違いと共通点があります。1.作業環境：真空焼結炉は焼結時に真空環境を採用しています。

炭化ケイ素焼結炉は、炭化ケイ素セラミック材料を製造するための装置の一種です。炭化ケイ素セラミックス材料は、高硬度、高強度、耐摩耗性、耐食性、高温安定性などの優れた特性を備えているため、広く使用されています。

グラフェンに適した高温炉は主にいくつかあります。 1. 真空炉: 真空炉は高温環境を提供し、高温でのグラフェンと酸素の反応を避けるために酸素などのガスを排除できます。2.雰囲気炉：雰囲気炉で制御可能