グラフェンに適した高温炉は主にいくつかあります。
1. 真空炉: 真空炉は高温環境を提供し、高温でのグラフェンと酸素の反応を避けるために酸素などのガスを排除します。
2.雰囲気炉：雰囲気炉は、グラフェンの特定の熱処理ニーズを達成するために、窒素、水素などのグラフェンの雰囲気環境を制御できます。
3. 高速炉: 高速炉は、急速加熱および冷却の機能を備えており、グラフェンの迅速な調製に使用できます。
これらの高温炉の特徴は次のとおりです。
1.高温安定性：グラフェンの熱処理プロセスを保証するために、安定した高温環境を提供できます。
2. 高い温度制御精度: 炉内の温度を正確に制御して、グラフェンの特定の熱処理ニーズを満たすことができます。
3. 強力な雰囲気制御能力: 雰囲気炉の場合、炉内の雰囲気環境を正確に制御して、グラフェンの特定の熱処理ニーズを満たすことができます。
4. 急速加熱および冷却能力: 高速炉の場合、急速加熱および冷却を実現して、グラフェンのニーズを迅速に準備できます。
一般に、グラフェンに適した高温炉は、高温安定性、高い温度制御精度、強力な雰囲気制御能力、急速加熱冷却能力などの特徴を備えています。
