堆積炉は、固体表面に薄膜やコーティングを堆積するために使用される熱処理装置です。異なる動作原理と応用分野に応じて、沈降炉はさまざまなタイプに分類でき、一般的な分類は次のとおりです。
1. 化学気相成長 (CVD) 炉: CVD 炉は、気相化学反応を使用して固体表面に薄膜を堆積する装置です。通常、半導体、光学薄膜、コーティングなどの材料を調製するために使用されます。
2. 物理蒸着 (PVD) 炉: PVD 炉は、蒸発やスパッタリングなどの物理プロセスを使用して固体表面に薄膜を蒸着する装置です。通常、金属、セラミックス、ナノマテリアルなどの製造に使用されます。
3. 溶液堆積炉: 溶液堆積炉は、化学溶液中の物質を使用して固体表面に薄膜やコーティングを堆積する装置です。通常、生体材料、セラミックフィルム、コーティングなどの調製に使用されます。
4. 熱原子層堆積炉 (ALD): 熱原子層堆積炉は、原子層堆積技術を使用して固体表面に薄膜を堆積する装置です。通常、高精度で高品質な薄膜材料を作製するために使用されます。
沈降炉の主な用途は次のとおりです。
1. 機能性フィルムの作製：透明導電膜、防食コーティング、光学フィルムなどの特定の機能を備えたフィルムを製膜することができます。
2. 表面改質: 蒸着炉は固体表面に被覆層を形成し、硬度、耐摩耗性、耐食性などの増加など、材料の表面特性を改善します。
3. ナノマテリアルの準備: 堆積炉を使用して、ナノ粒子、ナノワイヤ、ナノフィルムなどのナノマテリアルを準備できます。
4. 光学用途: 蒸着炉は、光学デバイスやシステムで使用する光学薄膜、反射レンズ、光学フィルターなどを作成できます。
全体的に、蒸着炉は材料科学、半導体産業、光工学、表面工学などの分野で重要な応用価値があり、材料表面の精密な制御と機能向上を実現できます。
