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真空高圧焼結炉

機器は主に大学や大学に使用されています。
可用性ステータス:
数量:

真空热压烧结炉+水印


真空高圧焼結炉  


[使用]:この機器は、主に大学、大学、金属化合物、セラミック、無機化合物、ナノマテリアルなどの科学的研究ユニットに使用されます。これは、高精度のセラミックネットレルレス型のセラミックネットレライトの生産など、一貫した生産物を得るために、圧力加熱および焼結作用のための真空または保護雰囲気の条件下で使用されます。



特徴:  

(1)二重SUS304炉構造、中央を冷却する水を冷却し、炉の表面温度を効果的に低下させて高温の損傷を減らし、環境への影響を減らします。  

(2)機器の信頼性を確保するために、プロファイル溶接、全体的な処理を使用したフレームタイプのダブルカラムサポート構造。  

(3)熱絶縁材料と熱断熱構造の使用、低熱伝導率、良好な熱断熱効果、高温であっても、熱を効果的に分離し、エネルギー消費を節約することができます。  

(4)広い温度範囲、グラファイト、モリブデン、タングステン、タンタルなどのさまざまなオプションの加熱要素、適切な保護雰囲気で、温度は2800℃に達する可能性があり、異なる材料の熱いプレス焼結に適応できます。  

(5)多様な真空システム構成、プロセスに応じてさまざまなレベルの真空を選択します。  

(6)充電およびリリースシステムなしで、真空環境で熱い圧迫焼結を選択できます。また、不活性雰囲気の熱いプレス焼結または雰囲気を減らすこともできます。  

(7)両方の手動操作である人間化された構成も、1ボタンのインテリジェント操作を実現できます。  

(8)この炉は  マルチプルーズを満たすことができ、単純な真空または雰囲気の焼結炉として使用できます。  

(9)多様な種類、垂直上部放電、垂直方向の側型ドア放電、一方向圧力、双方向の圧力など、任意の選択。  

(10)この製品は、非標準のカスタマイズを受け入れます。  

製品仕様

モデル

ワーキングゾーンサイズ(mm)

最高温度(℃)

コールドステートリミテッドバキューム度(PA)

圧力上昇率(PA/H)

定格電力(kw)

圧力(t)

変位(mm)

インフレ圧力(MPA

JT-Ryl-50

φ150*200

2400

5*10-3

3

50

20-200

0-100

0.05

JT-Ryl-75

φ200*300

2400

5*10-3

5

75

20-200

0-125

0.05

JT-Ryl-100

φ300*400

2400

5*10-3

6

100

20-200

0-250

0.05

JT-Ryl-200

φ400*500

2400

5*10-3

6

200

20-300

0-300

0.05

JT-Ryl-300

φ500*600

2400

5*10-3

6.5

300

20-400

0-350

0.05

JT-Ryl-400

φ600*700

2400

5*10-3

6.5

400

20-400

0-450

0.05

JT-Ryl-500

φ700*800

2400

5*10-3

7

500

20-600

0-500

0.05

JT-Ryl-600

φ600*1000

2400

5*10-3

7

600

20-600

0-500

0.05

JT-Ryl-800

φ800*1000

2400

5*10-3

8

800

20-800

0-600

0.05


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